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提高芯片的使用壽命 萊特萊德超純水工藝更加穩定

文章出處:作者:發表時間:2021-03-31 14:23:21

  隨著半導體行業技術的迅猛發展,集成電路特征尺寸進入到深亞微米階段,集成電路芯片制造工藝中所要求的芯片表面的潔凈度越來越高,為了保證芯片材料表面的潔凈度,集成電路的制造工藝中存在數百道清洗工藝。

  傳統的清洗方式是利用去離子水沖洗芯片,這種方式中,去離子水以很高的流量沖擊芯片,將芯片上的雜質和污染物沖走,從而達到清洗效果。但是這種清洗方法對芯片的沖擊力過大,容易造成元件圖案的損壞,并且這種清洗方式的去離子水的利用率低,導致資源浪費。另一種清洗方式是采用鹽酸或氫氟酸進行浸泡清洗,然而,此種清洗方法的清洗效果不佳,表面殘留的溶液會對芯片表面造成腐蝕。

超純水設備

  為了彌補傳統工藝中的不足,萊特萊德提供更為穩定的超純水系統,具有工藝簡便、成本低、性能優越、耐久性能好、適用范圍廣等優點,可高效去除芯片表面上的殘留物,防止對芯片造成腐蝕,從而提高芯片的使用壽命。

  1、系統結合了混床和EDI兩大工藝的特點,采用低壓循環再生模式,低能耗,模塊恢復性能優。

  2、在更換樹脂床或使用化學試劑進行樹脂再生時并不需要關閉系統,減少了水質量不穩定的因素,同時簡化了操作和基建成本。

  3、系統搭載了錯流PON耐污染技術、POM寬流道高架橋旁路技術等多項技術,可實現低壓系統運行與高回收率并存。

  萊特萊德是集設計、生產、制造于一體的綜合大型企業,廠家生產的超純水設備能夠長期而穩定的生產出符合質量要求的用水,在石油、化工、煉油、火力發電、電力也都有著重要應用。

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