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超純水設備為PCB電鍍涂裝行業提供優質清洗用水

萊特萊德PCB電鍍涂裝行業超純水設備在設計上采用成熟、可靠、自動化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝,確保處理后出水電阻率達到18 MΩ.CM以上。...

超純水設備為集成電路產品規模增長助力

萊特萊德超純水設備生產的超純水的電阻率可達到18 MΩ*cm(25℃),完全符合集成電路清洗用水要求。...

超純水設備保證超聲波清洗用水水質

萊特萊德超純水設備具有良好的應用價值,可實現自動控制,在一定程度上可以有效地達到我國電子水質標準,具有自動化程度高,過程易實現自動控制,產水水質穩定等優勢。...

曬芯片制造成績單 超純水設備助力芯片生產

萊特萊德超純水設備采用反滲透水處理設備與電去離子設備及拋光混床相結合的方式來制取超純水,這是一種制取超純水的新工藝,也是一種環保、經濟、發展潛力巨大的超純水制備...

運行壓力對EDI超純水系統有哪些影響?

為了EDI超純水系統能夠正常的運行,要保證系統的運行壓力在一定的范圍內,不要對系統造成損壞。...

如何防止單晶硅超純水設備滋生細菌?

單晶硅超純水設備經過長時間的使用后,不可避免的會發生細菌滋生的問題,細菌滋生不僅會影響設備的產水水質,還會對設備產生影響,那么,如何防止單晶硅超純水設備細菌滋生...

半導體超純水設備為什么會堵塞?

半導體超純水設備在制取超純水的過程中有一個很重要的步驟就是通過反滲透膜去除水中的雜質,長期使用后反滲透膜也會因為一些原因被堵塞,這就是我們常見的半導體超純水設備...

芯片行業發展迅速 超純水設備前景向好

芯片作為一種高精度電子元件,對于生產用水有著極高的要求,如果水質不合格就會影響芯片的電阻率,萊特萊德超純水設備生產的水質是除了水分子外,幾乎沒有什么雜質的水質,...

超純水設備在集成電路清洗中優勢

目前,上海正在全力打造集成電路創新高地。設計領域,部分企業研發能力已達7納米。裝備材料領域,處于國內領先水平,部分戰略性產品已達或接近國際先進水平。集成電路是一種...

EDI高純水設備停機程序說明

我們在使用EDI高純水設備時一定要按照說明書或專業技術人員指導的方式進行操作。下面就為大家詳細說明EDI高純水設備停機的正確程序:...

高純水裝置中反滲透膜被不同雜質污染會出現哪些狀況

為了加速化工行業的發展,生產工藝的改進成為了重中之重,化工行業生產過程中的用水需求量較大,對水的應用必需嚴格把關,化工高純水裝置受到了高度重視。...

電子超純水處理設備在運行前需要滿足哪些條件

電子超純水處理設備中核心的部分就是反滲透裝置,該裝置主要是運用膜分離原理通過壓力對水進行處理。...

超純水廠家破解污染超純水設備中膜元件的主要原因

可能會污染超純水處理設備中反滲透膜的原因有很多,有可能是設備設計不合理,也有可能是因為水中雜質的影響,同時還有可能是因為其他外界的原因,這些原因都可能影響膜的性...

高純水生產設備中膜元件使用功能受哪些因素影響

高純水生產設備的核心組成部分為反滲透膜元件,對凈化水質起到至關重要的作用。...

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