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超純水設備為PCB電鍍涂裝行業提供優質清洗用水

萊特萊德PCB電鍍涂裝行業超純水設備在設計上采用成熟、可靠、自動化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝,確保處理后出水電阻率達到18 MΩ.CM以上。...

超純水設備扭轉芯片緊缺局勢 拓展廣闊市場

萊特萊德超純水設備根據芯片用水要求,采用全自動電去離子超純水處理技術,前置預處理配套使用加反滲透處理,有效去除水中各種鹽份及雜質,進一步提升水質,出水水質完全符...

半導體材料市場迎機遇 且看超純水設備如何助力行業發展

萊特萊德超純水設備出水水質符合美國ASTM D5127電子及半導體業用純水水質TypeE-1.2,高于中國國家電子級超純水標準GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標準。...

反滲透膜在生產純水和超純水中的應用

該系統具有出水質量高、連續生產、使用方便、無人值守、不用酸堿、不污染環境、占地面積小和運行經濟等一系列優點,被稱為“綠色”脫鹽系統。...

超純水設備為集成電路產品規模增長助力

萊特萊德超純水設備生產的超純水的電阻率可達到18 MΩ*cm(25℃),完全符合集成電路清洗用水要求。...

電子行業景氣度有望持續全年 超純水設備助力行業發展

萊特萊德超純水是指電阻率達到18 MΩ*cm(25℃)的水,這種水中除了水分子外,幾乎沒有什么雜質,完全滿足芯片生產用水需求,解決了我國當下的“芯”難題。...

超純水設備保證超聲波清洗用水水質

萊特萊德超純水設備具有良好的應用價值,可實現自動控制,在一定程度上可以有效地達到我國電子水質標準,具有自動化程度高,過程易實現自動控制,產水水質穩定等優勢。...

曬芯片制造成績單 超純水設備助力芯片生產

萊特萊德超純水設備采用反滲透水處理設備與電去離子設備及拋光混床相結合的方式來制取超純水,這是一種制取超純水的新工藝,也是一種環保、經濟、發展潛力巨大的超純水制備...

提高芯片的使用壽命 萊特萊德超純水工藝更加穩定

隨著半導體行業技術的迅猛發展,集成電路特征尺寸進入到深亞微米階段,集成電路芯片制造工藝中所要求的芯片表面的潔凈度越來越高,為了保證芯片材料表面的潔凈度,集成電路...

解決傳統工藝問題 萊特萊德提供更優品質的超純水

萊特萊德采用獨有的靶向離子交換系統針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除,保證出水硼離子能夠穩定≤5ppt。系統集成度高,雙操作系統,更高系統穩定性?蛇B續,穩定...

多項創新技術依托 為半導體元件提供用水保障

超純水是半導體元件中用水的重要保障,萊特萊德超純水設備嚴格遵循《電子級水GB-T11446.1-2013》超純水標準,采用獨有的靶向離子交換系統針對超純水中難處理的硼及其他離子...

運行壓力對EDI超純水系統有哪些影響?

為了EDI超純水系統能夠正常的運行,要保證系統的運行壓力在一定的范圍內,不要對系統造成損壞。...

如何防止單晶硅超純水設備滋生細菌?

單晶硅超純水設備經過長時間的使用后,不可避免的會發生細菌滋生的問題,細菌滋生不僅會影響設備的產水水質,還會對設備產生影響,那么,如何防止單晶硅超純水設備細菌滋生...

半導體超純水設備為什么會堵塞?

半導體超純水設備在制取超純水的過程中有一個很重要的步驟就是通過反滲透膜去除水中的雜質,長期使用后反滲透膜也會因為一些原因被堵塞,這就是我們常見的半導體超純水設備...

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